精密涂布工藝應(yīng)用『新進(jìn)展』是什么?我們一起看看吧!

　　涂布工藝是改變和**材料表面特性的重要加工工藝， 而隨著科學(xué)技術(shù)地不斷發(fā)展，涂布工藝更成為許多重要功能性材料研究開(kāi)發(fā)所不可或缺的重要工藝技術(shù)手段。特別是精密涂布工藝技術(shù)可滿足某些涂層的特殊要求，從而增加材料的附加值并擴(kuò)大其應(yīng)用范圍。

　　一次多層坡流擠壓涂布和落簾涂布曾是精密涂布工藝技術(shù)的典型代表。正是多層坡流擠壓涂布技術(shù)的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用，使彩色感光材料的多功能層結(jié)構(gòu)在性能上得以極大**并實(shí)現(xiàn)工業(yè)大生產(chǎn)?？梢哉f(shuō)，沒(méi)有一次多層高速擠壓涂布技術(shù)，要實(shí)現(xiàn)多達(dá)10余層而總厚度僅為20μm左右的彩色膠卷工業(yè)化生產(chǎn)是不可想象的。

　　目前照相感光材料工業(yè)雖已日趨衰微，但擠壓涂布和落簾涂布技術(shù)仍在輕工造紙、 膜材料加工,、包裝材料等行業(yè)中得到了推廣應(yīng)用。

　　近年來(lái)，平板顯示產(chǎn)業(yè)以及一些新型光電子產(chǎn)品，得到了迅猛發(fā)展。這些產(chǎn)品的涂層往往要求更薄、更均勻，從而對(duì)精密涂布工藝技術(shù)又提出了新的要求。

　　例如液晶顯示器所用的防反射膜、防眩光膜的涂層厚度只有幾十至100nm 左右;而用于新型充電鋰電池電極的涂層要求實(shí)現(xiàn)帶狀涂布或間歇塊狀涂布。多層擠壓涂布和落簾涂布顯然已不能完全滿足這方面的要求。

　　有大量文獻(xiàn)資料報(bào)導(dǎo)，條縫涂布和微凹版輥涂布工藝在這些領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。

　　這類(lèi)光學(xué)膜涂層傳統(tǒng)上采用真空蒸鍍、化學(xué)沉積、等離子聚合等方法，這些方法是在真空條件下將固態(tài)組分氣化蒸發(fā)沉積在特定的基體上。由于必須采取真空密閉操作環(huán)境，難以實(shí)現(xiàn)低成本、**率的卷對(duì)卷式大規(guī)模生產(chǎn)。采用旋涂法雖也能得到均勻的薄層涂布效果，但受到涂布面積和涂布效率的限制，特別是其涂布液的利用率只有5 %左右，造成巨大的浪費(fèi)，難以實(shí)現(xiàn)低成本的工業(yè)化生產(chǎn)。

　　因此, 尋求新的精密涂布工藝技術(shù)，適應(yīng)低成本、高質(zhì)量、大規(guī)模生產(chǎn)，以適應(yīng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)需要是必然的選擇。

　　如許多光電子產(chǎn)品中的透明電極導(dǎo)電層———銦錫氧化物(ITO) 就一直采用濺射法制備。而日立麥克賽爾公司于2008 年底，宣布采用濕法涂布工藝制成透明I TO 導(dǎo)電膜 。該公司利用其水熱法制備氧化鐵磁粉的經(jīng)驗(yàn)，制備了納米級(jí)的ITO 微粒子，通過(guò)分散配制成ITO涂布液，再經(jīng)微凹版輥涂布工藝將ITO涂布液涂布在PET 基材上， 經(jīng)干燥后就得到透明ITO 導(dǎo)電膜。

　　而另一方面， 采用有機(jī)導(dǎo)電高分子聚合物，通過(guò)溶液涂布手段形成透明導(dǎo)電膜取代ITO 膜的工藝路線， 已開(kāi)始得到愈來(lái)愈多的應(yīng)用。

　　◤ 微凹版輥涂布工藝

　　微凹版輥涂布工藝概述

　　微凹版輥涂布工藝技術(shù)是日本康井精機(jī)公司在普通逆向凹版輥涂布工藝基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)的專(zhuān)有技術(shù)。其基本原理相同，都是一種自計(jì)量方式的涂布工藝：藉助于凹版輥網(wǎng)紋圖案、線數(shù)以及深度確定帶液量，并通過(guò)一些工藝操作條件因素來(lái)決定轉(zhuǎn)移涂布量的一種涂布方式。兩者涂布

　　微凹版輥與普通凹版輥涂布工藝的.大區(qū)別就在于“微” 。普通凹版輥的直徑約為125 ～ 250mm ，而微凹版涂布輥的直徑，根據(jù)不同涂幅寬度分別為20mm (涂布寬幅為300mm) 和50mm (涂布寬幅為1600mm)。這樣小直徑的凹版輥在涂布時(shí)與被涂基材的接觸面積要小得多。

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